简单介绍:
镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等
详情介绍:
一、设备性能:
镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,综合功能多,扩展空间大,适合及满足大专院校的教学与科研工作。
二、设备基本结构:
镀膜设备由真空室腔体,金属/有机源系统,样品台系统,真空泵机组,膜厚检测系统,设备机架,电控系统组成,真空室前门可与手套箱对接,采用一体化的设计方案,整套设备结构紧凑、布局简洁,避免实验设备外观凌乱的现象。