一、测控溅射工作原理
先将真空室预抽至 10-3 Pa，然后通入气体（如氩气），气压为 1-10Pa 时，给靶加负电压，产生辉光放电，电子在电场正作用下加速飞向基片时，与氩原子碰撞，电离出 Ar 和另一个电子；轰击靶材，由二次电子电离的 越来越多，不断轰击靶材；磁场改变电子的运动方向， 以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹， 从而提高电子对工作气体的电离几率。
二、空心阴极离子镀原理
在本底真空为高真空的条件下，由阴极中通入氩器气（ 1-10-2）在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压， 使氩气发生辉光放电， 在空心阴极内产生低压等离子体放电，阴极温度升高到 2300-2400K 时，由冷阴极放电转为热阴极放电，开始热电子发射，放电转为稳定状态。通入反应气体，可以制化合膜。
三、多弧离子镀工作原理
其工作原理为冷阴极自持弧光放电，其物理基础为场致发射。被镀材料接阴极， 真空室接阳极， 真空室抽为高真空时， 引发电极启动器，接触拉开，此时，阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电，阴极表面布满飞速游动的阴极斑， 部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源，以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。
四、 电阻蒸发式镀膜机
膜材即要镀的材料放于蒸发舟中， 置于真空室中， 抽到一定真空时，通过电阻加热膜材， 使其蒸发， 当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时，原子和分子从蒸发源中逸出后，到达基片形成膜。为了使膜厚均匀，可以利用电机带动基片旋转，并用膜厚仪控制膜厚，制出优质膜。
五、 PVD镀膜工作原理
将被镀件放在低压辉光放电的阴极上， 通入适当气体， 在一定温度下，利用化学反应和离子轰击相结合的过程， 在工件表面获得涂层。
六、 E型枪工作原理
阴极灯丝加热后发射具有 0.3 EV 初动能的热电子，这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。 在电磁线圈的磁场中，电子束沿 E x B的方向偏转，通过阴极时，电子的能量提高到 10KV，通过阳极电子偏转 270 度角而入射坩埚内的膜材表面上，轰击膜材使其蒸发。
七、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）镀膜机：在真空室内通入反应气体，利用射频或微波等能量源激发产生等离子体，等离子体中的活性粒子与反应气体发生化学反应，在基材表面生成固态薄膜。通过控制反应气体的种类、流量、等离子体功率等参数，可以调节薄膜的成分、结构和性能。
八、金属有机化学气相沉积（MOCVD）镀膜机：以金属有机化合物作为前驱体，与其他反应气体一起通入反应室，在高温和一定压力下，金属有机化合物分解并与其他气体发生化学反应，在基材表面沉积形成金属、合金或化合物薄膜。
九、HMDS 真空镀膜机：主要由腔体、真空系统、加热系统、充氮系统、加液系统及控制系统等组成。通过多次预抽真空和热氮加热，使 HMDS 以蒸汽形式均匀涂布在晶片表面，形成一层 HMDS 保护膜，降低硅片的接触角，提高光刻胶与硅片的黏附性。
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