产品价格： < 面议
品牌：微仪真空
公司名称：深圳微仪真空技术有限公司
溅射（Sputtering）沉积设备
畅销产品 2024 大功率磁控管溅射涂布机 Pvd 真空
溅射技术在充有惰性气体的真空系统中，通过高压电场的作用，使得氩气等气体电离，产生等离子体，轰击靶阴极，被溅出的靶材料原子或分子沉淀积累在半导体芯片或玻璃、陶瓷上而形成薄膜。溅射的优点是能在较低的温度下制备高熔点材料的薄膜，在制备合金和化合物薄膜的过程中保持原组成不变。
可应用于：各类金属、氧化物、无机物等薄膜制备。
产品详细信息
○ 产品简介
三靶（单靶双靶都有）磁控溅射仪是我公司一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
○ 适用范围
可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
○ 产品特点
1、配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。
5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。
○ 技术参数
产品型号 | 三靶磁控溅射仪 | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要 | ||
主要特点 | 1、配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。 5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。 | ||
技术参数 | 1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：2.5KW 3、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到 E-5mbar） 4、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：3个 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W（可选） 9、射频溅射功率：300W/500W（可选） 10、载样台：Ø140mm 11、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 12、保护气体：Ar、N2等惰性气体 13、进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM | ||
产品规格 | 主机尺寸：500mm×560mm×660mm，整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg | ||
标准配件 | 1 | 直流电源控制系统 | 2套 |
2 | 射频电源控制系统 | 1套 | |
3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | |
4 | 600分子泵组 | 1台 | |
5 | 工业级水冷机 | 1台 | |
6 | 冷却水管（Ø6mm） | 4根 | |
可选配件 | 金、铟、银、白金等各种靶材 | ||
○ 免责声明
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