科研级磁控溅射设备400

科研级磁控溅射设备400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度，设备维护简单的特点。400系统标配6个2inch共焦超高真空阴极，满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单，运行稳定。

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• 产品型号：WY-PSP180G-TA

• 品 牌：微仪真空

• 公司名称：深圳微仪真空技术有限公司

通过本400科研级磁控溅射，制备了具有强PMA的Mo基结构的单自由层和双自由层MTJ磁隧道结薄膜。

根据图1实验结果得出，Mo基双自由层薄膜的吉尔伯特阻尼常数为0.02。

在一个制备的p-MTJ结构中，由HR-TEM、EDS和EELS测试结果显示，膜层界面清晰，扩散率较低，具有较高的热稳定性。

AuSn合金薄膜

AuSn合金薄膜X射线衍射测试表征结果 （衬底Si片)

TiPtAu多层薄膜

TiPtAu多层薄膜截面SEM扫描图

MS-400型磁控溅射系统可以实现最高1200摄氏度的加热温度，可以满足单晶材料沉积的需求。

RuO2等单晶材料的制备