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桌面式磁控溅射设备200
桌面式磁控溅射设备200

桌面式磁控溅射设备200

200磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统,具有高真空、单原子层沉积精度的特点,可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配1个2英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。

桌面式磁控溅射设备200磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统,具有高真空、单原子层沉积精度的特点,可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配12英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。


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  • 产品型号:WY-PSP180G-TA

  •  牌:微仪真空

  • 公司名称:深圳微仪真空技术有限公司


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