真空镀膜分为pvd和cvd，为何PVD真空镀膜越来越受欢迎?

真空镀膜是一种在真空环境下，通过物理或化学方法将材料沉积到基底表面形成薄膜的技术。这种薄膜可以赋予基底许多新的特性，比如提高硬度、增强耐磨性、改善光学性能、赋予装饰性外观等，被广泛应用于众多领域。

分类

• 物理气相沉积（PVD）：

• 真空蒸发镀膜：把待镀材料置于真空室内，通过加热使其蒸发气化，蒸发出来的原子、分子等在基底表面沉积形成薄膜。例如在光学镜片镀膜中，将金属或金属化合物加热蒸发后沉积到镜片表面，以增加镜片的透光性、减少反射等。常见的加热方式有电阻加热、电子束加热等。

• 溅射镀膜：利用离子源产生的高能离子轰击靶材，使靶材表面的原子或分子被溅射出来，然后沉积到基底上形成薄膜。像在半导体制造中，常通过溅射镀膜来沉积金属薄膜作为电路的导电层，溅射的离子源可以是氩气等惰性气体离子化后形成的。

• 化学气相沉积（CVD）：
  是利用气态的先驱反应物，在基底表面通过化学反应生成固态薄膜的过程。比如在制备碳化硅薄膜时，可以让含有硅、碳元素的气态化合物通入到高温的反应腔室中，在基底表面发生化学反应，沉积出碳化硅薄膜。它常用于高温、高硬度涂层以及一些功能性薄膜的制备，像在刀具表面沉积耐磨涂层以提高刀具的使用寿命等。

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为何PVD镀膜越来越受欢迎?薄膜质量好，适用范围广，环保性较好等等。

特点

• 薄膜质量好：

• 由于整个过程在真空环境下进行，杂质气体的混入量极少，所制备的薄膜纯度高、结构致密、附着力强，比如在光学镜片上通过 PVD 镀膜形成的抗反射膜，其薄膜质量高，能有效减少镜片反射，提升光学性能且不易脱落。

• 可以通过精确控制工艺参数来调节薄膜的微观结构和性能，像通过控制蒸发速率、溅射功率等能使薄膜的晶粒大小、致密度等达到理想状态。

• 可精确控制薄膜厚度：
  能够依据不同的应用需求，通过精准调节镀膜时间、沉积速率等参数，实现对薄膜厚度从纳米级到微米级的精确控制。例如在半导体芯片制造中，对金属互连层薄膜的厚度有着严格的纳米级控制要求，PVD 技术就能很好地满足这一点。

• 适用范围广：

• 几乎可以对所有的金属、合金、陶瓷、化合物等材料进行镀膜处理，无论是在金属基底上还是非金属基底（如塑料、玻璃等）上都能实现薄膜沉积，满足多样化的功能需求，像在塑料基底上镀金属薄膜实现电磁屏蔽功能，或者在金属刀具上镀陶瓷薄膜提高耐磨性等。

• 环保性较好：
  相较于传统的电镀等化学镀膜方法，PVD 过程一般不涉及大量化学试剂的使用，产生的废液、废气等污染物相对较少，符合现代环保生产的要求，是一种较为绿色的镀膜技术。

深圳微仪真空技术有限公司致力于镀膜设备的真空镀膜是符合时代趋势、低污染、高质量的表面处理工艺，对于精密光学或是日常用品都是常见且重要的应用，它以真空技术为基础，在真空环境下利用PVD、CVD，将金属或化合物沉积在工件上，产生单层或多层薄膜开发及膜层技术的研发。

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