靶材是镀膜的原材料，通过磁控溅射、多弧离子镀、离子束溅射或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下将其溅射，形成气态原子，经过迁移在基板上沉积形成各种功能的薄膜。
其结构形式可根据需要进行定制，包括圆柱管靶、矩形平面靶、圆柱平面靶、异性等；其尺寸、材质也根据客人需要定制。
目前各类金属靶、陶瓷靶、合金靶、化合物等种类应有尽有，均可根据工艺需要定制。
蒸发镀膜材料更是琳琅满目，十分丰富，广泛应用于半导体集成电路、太阳能、数据存储、玻璃工业、装饰镀膜、工具镀膜等行业。
溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。
溅射镀膜和溅射靶材
溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。
溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。
溅射镀膜和溅射靶材
溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。
深圳微仪真空技术有限公司致力于镀膜设备的真空镀膜是符合时代趋势、低污染、高质量的表面处理工艺，对于精密光学或是日常用品都是常见且重要的应用，它以真空技术为基础，在真空环境下利用PVD、CVD，将金属或化合物沉积在工件上，产生单层或多层薄膜开发及膜层技术的研发。
为更多领域及产业类别的客户，提供各式客制化镀膜代工服务，以最专业的真空镀膜设备镀制最高质量的膜层，为您生产反射膜、抗反射膜、装饰性镀膜等产品和服务。任何镀膜加工问题，欢迎咨询，我们将以最佳效率回应您的需求！
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