真空镀膜分为pvd和cvd，为何PVD真空镀膜越来越受欢迎?

真空镀膜是一种在真空环境下，通过物理或化学方法将材料沉积到基底表面形成薄膜的技术。这种薄膜可以赋予基底许多新的特性，比如提高硬度、增强耐磨性、改善光学性能、赋予装饰性外观等，被广泛应用于众多领域。

分类

• 物理气相沉积（PVD）：

• 真空蒸发镀膜：把待镀材料置于真空室内，通过加热使其蒸发气化，蒸发出来的原子、分子等在基底表面沉积形成薄膜。例如在光学镜片镀膜中，将金属或金属化合物加热蒸发后沉积到镜片表面，以增加镜片的透光性、减少反射等。常见的加热方式有电阻加热、电子束加热等。

• 溅射镀膜：利用离子源产生的高能离子轰击靶材，使靶材表面的原子或分子被溅射出来，然后沉积到基底上形成薄膜。像在半导体制造中，常通过溅射镀膜来沉积金属薄膜作为电路的导电层，溅射的离子源可以是氩气等惰性气体离子化后形成的。

• 化学气相沉积（CVD）：
  是利用气态的先驱反应物，在基底表面通过化学反应生成固态薄膜的过程。比如在制备碳化硅薄膜时，可以让含有硅、碳元素的气态化合物通入到高温的反应腔室中，在基底表面发生化学反应，沉积出碳化硅薄膜。它常用于高温、高硬度涂层以及一些功能性薄膜的制备，像在刀具表面沉积耐磨涂层以提高刀具的使用寿命等。

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为何PVD镀膜越来越受欢迎?薄膜质量好，适用范围广，环保性较好等等。

特点

• 薄膜质量好：

• 由于整个过程在真空环境下进行，杂质气体的混入量极少，所制备的薄膜纯度高、结构致密、附着力强，比如在光学镜片上通过 PVD 镀膜形成的抗反射膜，其薄膜质量高，能有效减少镜片反射，提升光学性能且不易脱落。

• 可以通过精确控制工艺参数来调节薄膜的微观结构和性能，像通过控制蒸发速率、溅射功率等能使薄膜的晶粒大小、致密度等达到理想状态。

• 可精确控制薄膜厚度：
  能够依据不同的应用需求，通过精准调节镀膜时间、沉积速率等参数，实现对薄膜厚度从纳米级到微米级的精确控制。例如在半导体芯片制造中，对金属互连层薄膜的厚度有着严格的纳米级控制要求，PVD 技术就能很好地满足这一点。

• 适用范围广：

• 几乎可以对所有的金属、合金、陶瓷、化合物等材料进行镀膜处理，无论是在金属基底上还是非金属基底（如塑料、玻璃等）上都能实现薄膜沉积，满足多样化的功能需求，像在塑料基底上镀金属薄膜实现电磁屏蔽功能，或者在金属刀具上镀陶瓷薄膜提高耐磨性等。

• 环保性较好：
  相较于传统的电镀等化学镀膜方法，PVD 过程一般不涉及大量化学试剂的使用，产生的废液、废气等污染物相对较少，符合现代环保生产的要求，是一种较为绿色的镀膜技术。