UMO磁控溅射阴极全部自主研发设计制造，集成国际技术升级国产化，磁控溅射应用广泛

磁控溅射阴极

磁控溅射技术在光伏制造、ITO触屏、LOW-E、光学、半导体等各行业有广泛应用。溅射阴极一般为矩形平面和旋转圆柱结构，各有不同应用优势，在不同激励电源的驱动下，可以单靶、双靶使用，在多层复合膜的工艺情况，选用多靶组合使用。

UMO磁控溅射阴极全部自主研发设计制造，集成国际技术升级国产化，特点如下：

• •磁流体真空旋转密封,长寿命低漏率

• •长寿命的陶瓷旋转水密封装置

• •非真空环境下的双向推力轴承,任意角度安装

• •航空级大电流高耐磨贵金属电刷

• •大流量循环冷却水设计，冷却可靠

• •无需维护的全密封防水磁路结构

• •电机驱动绝缘齿轮驱动，维护简便

• •对水温、水流、传动实时监测和故障报警

• •对靶材寿命和阴极异常工作进行监控和记录

• •触屏显示参数和PLC控制,可进行本地和远程控制

• •可集成工艺气体控制系统和靶电压监测系统