靶材是镀膜的原材料，通过磁控溅射、多弧离子镀、离子束溅射或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下将其溅射，形成气态原子，经过迁移在基板上沉积形成各种功能的薄膜。
其结构形式可根据需要进行定制，包括圆柱管靶、矩形平面靶、圆柱平面靶、异性等；其尺寸、材质也根据客人需要定制。
目前各类金属靶、陶瓷靶、合金靶、化合物等种类应有尽有，均可根据工艺需要定制。
蒸发镀膜材料更是琳琅满目，十分丰富，广泛应用于半导体集成电路、太阳能、数据存储、玻璃工业、装饰镀膜、工具镀膜等行业。
溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。
溅射镀膜和溅射靶材
溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。
溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。
溅射镀膜和溅射靶材
溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。
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