一、真空蒸镀设备概述
真空蒸镀设备主要包括真空室、蒸发源、沉积室、控制系统等部分。下面我们来具体了解这些设备。
二、真空室
真空室是真空蒸镀设备中的核心部分,用于实现真空环境和容纳待镀物体。以下是一些真空室的图片:
- 立式真空室
- 卧式真空室
- 圆形真空室
三、蒸发源
蒸发源是真空蒸镀设备中用于加热材料并使其蒸发的部分。以下是一些蒸发源的图片:
- 电阻蒸发源
- 电子束蒸发源
- 激光蒸发源
四、沉积室
沉积室是真空蒸镀设备中用于接收蒸发材料并使其沉积在待镀物体上的部分。以下是一些沉积室的图片:
- 平面沉积室
- 圆形沉积室
- 多边形沉积室
五、控制系统
控制系统是真空蒸镀设备中用于控制整个蒸镀过程的部分。以下是一些控制系统的图片:
- 手动控制系统
- 自动控制系统
- 触摸屏控制系统
六、真空蒸镀设备的应用
真空蒸镀设备在电子、光学、装饰等领域具有广泛的应用。以下是一些应用实例的图片:
- 电子器件表面镀膜
- 光学镜头镀膜
- 装饰品镀膜
深圳微仪真空技术有限公司致力于镀膜设备的真空镀膜是符合时代趋势、低污染、高质量的表面处理工艺,对于精密光学或是日常用品都是常见且重要的应用,它以真空技术为基础,在真空环境下利用PVD、CVD,将金属或化合物沉积在工件上,产生单层或多层薄膜开发及膜层技术的研发。
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